检索结果-内蒙古大学图书馆

燕山大学学报 2018年第2期42卷 140-144页

作者：仲召进石丽芬曹欣高强赵凤阳马立云蚌埠玻璃工业设计研究院安徽蚌埠233018 浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000

本文主要通过控制主要原料硅砂的粒度范围来研究高应变点玻璃的熔制特性。通过金相显微镜和场发射扫描电子显微镜(SEM)分别测试样品中的气泡大小、成分的均匀性。通过对不同粒度硅砂配合料进行熔制过程的高温观察分析(HTO),探讨硅砂的... 详细信息

本文主要通过控制主要原料硅砂的粒度范围来研究高应变点玻璃的熔制特性。通过金相显微镜和场发射扫描电子显微镜(SEM)分别测试样品中的气泡大小、成分的均匀性。通过对不同粒度硅砂配合料进行熔制过程的高温观察分析(HTO),探讨硅砂的不同粒度对高应变点玻璃熔制行为和澄清时间的影响。研究结果表明,当硅砂粒度控制在100~150目时,样品的气泡含量少,成分较为均匀,熔制、澄清时间较短。

关键词：硅砂粒度高应变点玻璃熔制澄清玻璃配合料

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射频溅射功率对室温沉积AZO薄膜性能的影响

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真空 2019年第1期56卷 45-48页

作者：仲召进曹欣高强韩娜崔介东石丽芬姚婷婷马立云彭寿中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000 大连交通大学辽宁大连116028

本文采用直流射频耦合磁控溅射技术,在玻璃基底上室温沉积AZO薄膜,将射频电源功率从0W增加到到200W。通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外分光光度计、霍尔效应测试系统重点研究了AZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能... 详细信息

本文采用直流射频耦合磁控溅射技术,在玻璃基底上室温沉积AZO薄膜,将射频电源功率从0W增加到到200W。通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外分光光度计、霍尔效应测试系统重点研究了AZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能和电学性能。研究结果表明,直流射频耦合磁控溅射可以在室温下制备性能优异的AZO薄膜,且射频溅射功率对AZO薄膜光电性能有显著的影响,随着射频功率的提高,AZO薄膜致密性增加,粒子逐渐变大,薄膜表面形貌和生长形态发生一定变化。在射频功率为200W时,室温制备的AZO薄膜电阻率达到最低5.39×10^(-4)Ω·cm,薄膜平均可见光透过率达到82.6%。

关键词： AZO薄膜直流射频耦合表面形貌电学性能光学性能

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氧化铁浸染型石英中性正浮选制备低铁石英砂

氧化铁浸染型石英中性正浮选制备低铁石英砂

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2019年中国非金属矿科技与市场交流大会

作者：张乾伟石倩倩吴建新李佩悦常志达中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司浮法玻璃新技术国家重点实验室矿产资源所

氧化铁含量是决定石英在不同领域应用的主要因素,尤其是氧化铁浸染型石英砂,因氧化铁的赋存状态、共伴生、浸染程度及粒度差异,常规擦洗、强磁选及酸法反浮选难以有效降低石英中三氧化二铁含量。中性条件下,采用抑制剂抑制含铁矿物,采... 详细信息

氧化铁含量是决定石英在不同领域应用的主要因素,尤其是氧化铁浸染型石英砂,因氧化铁的赋存状态、共伴生、浸染程度及粒度差异,常规擦洗、强磁选及酸法反浮选难以有效降低石英中三氧化二铁含量。中性条件下,采用抑制剂抑制含铁矿物,采用捕收剂使充分解离的石英上浮,通过粗选、精选进一步降低石英精砂中三氧化二铁含量。研究表明:自然pH下,采用淀粉基抑制剂CTSS、两性捕收剂兼起泡剂ZD-3联合作用,可将此类石英砂三氧化二铁含量由130～150mg/kg降至60～100mg/kg,满足超白光伏玻璃用硅质原料的质量要求;入浮砂粒度上限为0.6mm,以≤0.5mm为宜;对含铁铝硅酸盐矿物、氧化铁浸染型石英砂,中性正浮选石英精砂三氧化二铁含量低于酸性反浮选石英精砂中该指标;热力学计算表明pH≥5.5时淀粉基抑制剂CTSS与氧化铁表面铁离子发生化学键合的标准自由能变化ΔG为负值,化学键合具有自发趋势,抑制剂CTSS与含铁矿物的优先吸附是实现石英中性正浮选提纯的关键之一。

关键词：石英氧化铁降铁浮选中性

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低温磁控溅射制备AZO薄膜及绒面研究

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稀有金属材料与工程 2017年第3期46卷 818-823页

作者：张宽翔彭寿姚婷婷曹欣金克武徐根保浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000 蚌埠玻璃工业设计研究院安徽蚌埠233018

采用直流射频耦合磁控溅射技术,以氧化锌掺铝(AZO,2%Al_2O_3,质量分数)陶瓷靶为靶材,在玻璃基片上低温沉积AZO薄膜,并采用质量分数为0.5%的HCl溶液刻蚀制备绒面AZO薄膜,通过XRD、SEM、分光光度计、霍尔效应测试系统、光电雾度仪等设备... 详细信息

采用直流射频耦合磁控溅射技术,以氧化锌掺铝(AZO,2%Al_2O_3,质量分数)陶瓷靶为靶材,在玻璃基片上低温沉积AZO薄膜,并采用质量分数为0.5%的HCl溶液刻蚀制备绒面AZO薄膜,通过XRD、SEM、分光光度计、霍尔效应测试系统、光电雾度仪等设备重点研究工作压强对直流射频耦合磁控溅射制备AZO薄膜的晶相结构、表面形貌、光电性能以及后期制绒的影响。研究表明,直流射频耦合磁控溅射可以在低温下制备性能优异的AZO薄膜,且随着工作压强的减小,致密性增强,光电性能改善,后期刻蚀得到具有良好陷光作用的绒面结构。在工作压强0.5 Pa下,低温制备的AZO薄膜电阻率达到3.55×10^(-4)Ω·cm,薄膜可见光透过达到88.36%,刻蚀后电阻率为4.19×10^(-4)Ω·cm,可见光透过率89.59%,雾度达24.7%。

关键词：直流射频耦合磁控溅射 AZO薄膜工作压强绒面

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超薄电子信息玻璃光学均匀性的检测方法

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材料导报 2018年第A02期32卷 89-91页

作者：曹欣王萍萍石丽芬马立云韩娜中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司浮法玻璃新技术国家重点实验室蚌埠230037 大连交通大学材料科学与工程学院大连116028

光学均匀性是衡量电子信息玻璃质量的重要参考指标。在电子信息显示产品中,对电子信息玻璃光学均匀性要求非常高,尤其是超薄电子信息显示玻璃,会直接影响其显示效果。本文详细介绍了几种用于测量玻璃光学均匀性的方法及其原理。对比发现... 详细信息

光学均匀性是衡量电子信息玻璃质量的重要参考指标。在电子信息显示产品中,对电子信息玻璃光学均匀性要求非常高,尤其是超薄电子信息显示玻璃,会直接影响其显示效果。本文详细介绍了几种用于测量玻璃光学均匀性的方法及其原理。对比发现,平面干涉与其他方法相比精度较高,较适用于超薄电子信息玻璃光学均匀性的检测。且常用的检测方法无法实现对毛坯玻璃的高精度检测,只有平面干涉法才能满足这一要求,使检测精度高达0.5×10-6,具有较好的应用价值。

关键词：超薄电子信息玻璃光学均匀性

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表面具有微纳结构的AZO薄膜制备及性能研究

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压电与声光 2018年第5期40卷 802-806页

作者：姚婷婷仲召进李刚汤永康杨勇金克武王天齐沈鸿烈甘治平马立云蚌埠玻璃工业设计研究院浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000 大连交通大学材料科学与工程学院辽宁大连116028 江苏省能量转换材料与技术重点实验室江苏南京211106

采用磁控溅射法及线棒刮涂法在玻璃衬底上室温生长微纳结构铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜,使底层AZO薄膜工作压强从1.5Pa调整到0.1Pa。通过扫描电子显微镜(SEM)、X线衍射(XRD)仪、霍尔效应测试系统、分光光度计及光电雾度仪研究了AZO薄膜的表... 详细信息

采用磁控溅射法及线棒刮涂法在玻璃衬底上室温生长微纳结构铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜,使底层AZO薄膜工作压强从1.5Pa调整到0.1Pa。通过扫描电子显微镜(SEM)、X线衍射(XRD)仪、霍尔效应测试系统、分光光度计及光电雾度仪研究了AZO薄膜的表面形貌、晶体结构、电学性能和光学性能。研究结果表明,降低底层AZO薄膜工作压强对微纳结构AZO薄膜光电性能有显著的影响。底层AZO薄膜工作压强0.2Pa时,薄膜表现最低电阻率为6.17×10-4Ω·cm,可见光波段平均光学透光率为82.3%。随着底层AZO薄膜工作压强的降低,薄膜表面形貌、生长形态和晶粒大小发生较大变化,并得到具有陷光作用、优良光电性能的微纳结构AZO薄膜。

关键词：铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜表面形貌微纳结构亲水性电学性能雾度

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碱土金属氧化物对无碱硼铝硅酸盐玻璃性能的影响

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材料科学与工程学报 2018年第5期36卷 824-828页

作者：张彬王静汤何锐吴孟鸣谢俊刘超韩建军曹欣曹志强傅新勇武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室湖北武汉430070 浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233010 蚌埠玻璃工业设计研究院安徽蚌埠233010 华北油田第五采油厂河北石家庄052360

本研究制备了不同碱土金属氧化物(RO)含量的无碱硼铝硅酸盐玻璃,并测定其各项物理化学性质。当RO浓度从10增加到20mol%时,玻璃的密度从2.41g/cm^3增加到了2.58g/cm^3,弹性模量从73.83GPa增加到82.48GPa,介电常数从6.98增加到了8.35。当R... 详细信息

本研究制备了不同碱土金属氧化物(RO)含量的无碱硼铝硅酸盐玻璃,并测定其各项物理化学性质。当RO浓度从10增加到20mol%时,玻璃的密度从2.41g/cm^3增加到了2.58g/cm^3,弹性模量从73.83GPa增加到82.48GPa,介电常数从6.98增加到了8.35。当RO浓度从10增加到14mol%时,玻璃的维氏硬度略有降低;当RO浓度进一步增加到20mol%时,玻璃的维氏硬度增加到670 kgf/mm^2。RO浓度的增加提高了玻璃的耐碱性,降低了耐酸性。

关键词：碱土金属氧化物无碱硼铝硅酸盐玻璃理化性能基板玻璃

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高长径比银纳米线的制备及其透明导电薄膜的性能

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材料热处理学报 2017年第5期38卷 25-29页

作者：彭寿操芳芳金良茂汤永康王东王魏巍单传丽倪嘉蚌埠玻璃工业设计研究院安徽蚌埠233000 浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000

采用简单高效的一步多元醇法以FeCl_3·6H_2O为成核控制剂,在低温、静置的条件下成功合成了产量高、形貌尺寸均匀、银线平均长度80~110μm、平均直径为40~80 nm,长径比大于1000的高长径比Ag纳米线。将制得银纳米线通过无水乙醇分散... 详细信息

采用简单高效的一步多元醇法以FeCl_3·6H_2O为成核控制剂,在低温、静置的条件下成功合成了产量高、形貌尺寸均匀、银线平均长度80~110μm、平均直径为40~80 nm,长径比大于1000的高长径比Ag纳米线。将制得银纳米线通过无水乙醇分散,得到一系列质量体积浓度的银线分散液,利用旋涂装置在PET上制备成膜,得到薄膜方阻仅6Ω/sq、可见光透过率80%左右性能良好的银纳米线透明导电薄膜,并探讨了旋涂层数、旋涂速度对各质量体积浓度薄膜性能的影响。

关键词：银纳米线透明导电膜高长径比方块电阻旋涂

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WO_3薄膜的磁控溅射法制备及电致变色性能

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材料导报 2017年第A02期31卷 140-144页

作者：金良茂汤永康甘治平李刚金克武杨勇彭塞奥王天齐蚌埠玻璃工业设计研究院浮法玻璃新技术国家重点实验室蚌埠233000

采用直流反应磁控溅射制备了具有优异电致变色性能的WO3薄膜。通过对成膜参数的调控,实现了低功率和短溅射时间的制膜制度,获得了较宽的工艺范围。通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、光学轮廓仪、电化学工作站、紫外-可见-红外分... 详细信息

采用直流反应磁控溅射制备了具有优异电致变色性能的WO3薄膜。通过对成膜参数的调控,实现了低功率和短溅射时间的制膜制度,获得了较宽的工艺范围。通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、光学轮廓仪、电化学工作站、紫外-可见-红外分光光度计研究了薄膜的物相、微观结构、厚度、电致变色性能。研究表明:在溅射功率为50 W,溅射压强为2.0 Pa,反应气体流量为20 sccm时所制得的薄膜性能最为优越。所制备薄膜具有较短的变色响应时间和大幅度的变色调制幅度,其对可见光变色调制幅度达到80%。

关键词： WO3薄膜电致变色磁控溅射

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水热法BTO功能陶瓷粉体材料制备技术研究进展

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材料化学前沿 2018年第2期6卷 44-50页

作者：严回倪晶晶韩晖王永和刘强王友乐蚌埠玻璃工业设计研究院浮法玻璃国家重点实验室安徽蚌埠安徽中创电子信息材料有限公司安徽蚌埠

本文主要介绍了水热法钛酸钡晶粒制备技术,该技术是在该材料工业中新兴起来的一项新的生产制备技术。本文主要阐述了水热法晶粒制备技术的基本原理、工艺分类、流程及不同工艺方法等方面的现状及进展。

关键词： BTO 水热技术粉体

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