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  • 114 篇 期刊文献
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  • 129 篇 电子文献
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学科分类号

  • 127 篇 工学
    • 110 篇 电子科学与技术(可...
    • 62 篇 材料科学与工程(可...
    • 5 篇 光学工程
    • 2 篇 机械工程
    • 2 篇 计算机科学与技术...
    • 2 篇 核科学与技术
    • 1 篇 仪器科学与技术
    • 1 篇 控制科学与工程
    • 1 篇 化学工程与技术
    • 1 篇 软件工程
  • 10 篇 理学
    • 10 篇 物理学

主题

  • 10 篇 高电子迁移率晶体...
  • 8 篇 algan/gan
  • 7 篇 cmos
  • 7 篇 多芯片组件
  • 6 篇 温度分布
  • 5 篇 压电薄膜
  • 5 篇 1/f噪声
  • 5 篇 延时
  • 4 篇 衬底驱动
  • 4 篇 击穿电压
  • 4 篇 微传感器
  • 3 篇 多晶硅
  • 3 篇 sic
  • 3 篇 自热效应
  • 3 篇 4h-sic
  • 3 篇 超低压
  • 3 篇 异质结晶体管
  • 3 篇 解析模型
  • 3 篇 xps
  • 3 篇 泄漏电流

机构

  • 123 篇 西安电子科技大学
  • 11 篇 宽禁带半导体材料...
  • 6 篇 教育部宽禁带半导...
  • 5 篇 北京微电子技术研...
  • 3 篇 中国电子科技集团...
  • 2 篇 工业和信息化部电...
  • 2 篇 国防科技大学
  • 2 篇 中国科学院苏州纳...
  • 2 篇 陕西科技大学
  • 2 篇 西北工业大学
  • 2 篇 中国电子科技集团...
  • 2 篇 宽禁带半导体材料...
  • 2 篇 西北大学
  • 2 篇 模拟集成电路国家...
  • 2 篇 湘潭大学
  • 1 篇 西安宽禁带半导体...
  • 1 篇 中国科学院半导体...
  • 1 篇 西北核技术研究所
  • 1 篇 西安微电子技术研...
  • 1 篇 河北工程大学

作者

  • 66 篇 杨银堂
  • 22 篇 董刚
  • 21 篇 张义门
  • 19 篇 张玉明
  • 18 篇 郝跃
  • 13 篇 朱樟明
  • 11 篇 李跃进
  • 10 篇 柴常春
  • 9 篇 吴振宇
  • 9 篇 娄利飞
  • 9 篇 庄奕琪
  • 9 篇 汪家友
  • 9 篇 冯倩
  • 7 篇 王冲
  • 7 篇 曹全君
  • 6 篇 包军林
  • 6 篇 杨燕
  • 6 篇 张林
  • 5 篇 蔡伟
  • 5 篇 陆铁军

语言

  • 129 篇 中文
检索条件"机构=西安电子科技大学微电子研究所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室"
129 条 记 录,以下是51-60 订阅
排序:
高击穿电压的AlGaN/GaN FP-HEMT研究与分析
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物理学报 2007年 第5期56卷 2895-2899页
作者: 郭亮良 冯倩 郝跃 杨燕 西安电子科技大学微电子研究所 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安710071
就蓝宝石衬底上制备的AlGaN/GaN场板(field plate)HEMT器件、常规HEMT器件性能进行了分析对比.结果证明两种结构的器件直流参数变化不大,但是采用场板后器件的击穿电压从52V提高到了142V.在此基础上利用Sivaco软件对两种器件进行模拟仿... 详细信息
来源: 评论
双槽电化学腐蚀法制备多孔硅的研究
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压电与声光 2007年 第6期29卷 740-742页
作者: 张萍 娄利飞 柴常春 杨银堂 西安电子科技大学微电子所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 陕西西安710071
论述了多孔硅的特点和制备方法,简单介绍双槽电化学腐蚀法的特点,并采用双槽电化学腐蚀法成功制备了多孔硅。多孔硅的扫描电镜(SEM)照片表明,孔径尺寸小,均匀性好,腐蚀结构规则。实验结果表明,衬底导电类型影响着多孔硅的制备条件。
来源: 评论
应变SiGe SOI量子阱沟道PMOSFET阈值电压模型研究
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物理学报 2007年 第6期56卷 3504-3508页
作者: 张鹤鸣 崔晓英 胡辉勇 戴显英 宣荣喜 西安电子科技大学微电子学院 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安710071 中国电子科技集团第五研究所分析中心
在绝缘层附着硅(SOI)结构的Si膜上生长SiGe合金制作具有SiGe量子阱沟道的SOIp型金属氧化物半导体场效应晶体管(PMOSFET),该器件不仅具有SOI结构的优点,而且因量子阱中载流子迁移率高,以进一步提高了器件的性能.在分析常规的SiSOI MOS... 详细信息
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Cost-Effective VDMOS and Compatible Process for PDP Scan-Driver IC
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Journal of Semiconductors 2007年 第11期28卷 1679-1684页
作者: 李小明 庄奕琪 张丽 辛维平 西安电子科技大学微电子研究所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 西安710071
A VDMOS integrated in a 170V scan-driver chip of a plasma display panel (PDP) is described,which is based on epitaxial bipolar-CMOS-DMOS (BCD) technology. Some key considerations and parameters of the design are d... 详细信息
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A New Empirical Large Signal Model of 4H-SiC MESFETs for the Nonlinear Analysis
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Journal of Semiconductors 2007年 第7期28卷 1023-1029页
作者: 曹全君 张义门 张玉明 吕红亮 郭辉 汤晓燕 王悦湖 西安电子科技大学微电子研究所 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安710071
A new comprehensive empirical large signal model for 4H-SiC MESFETs is proposed. An enhanced drain current model,along with an improved charge conservation capacitance model,is presented by the improvement of the chan... 详细信息
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PZT铁电材料的总剂量辐照效应实验研究
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强激光与粒子束 2007年 第12期19卷 2091-2094页
作者: 娄利飞 杨银堂 柴常春 高峰 唐重林 西安电子科技大学微电子研究所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 西安710071 西北工业大学材料科学与工程学院 西安710072
采用传统固相反应法制备PZT铁电材料,并制作成平行平板无源电容器结构,在ELV-8电子直线加速器上进行了总剂量效应辐照实验。结果表明:样片经过不同强度高能高速直流电子束辐照后的电滞回线随着辐照强度的增加,电滞回线包围的面积逐渐... 详细信息
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多芯片组件电磁干扰频谱中的两次峰值问题研究
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兰州大学学报(自然科学版) 2007年 第2期43卷 80-83页
作者: 徐如清 畅艺峰 杨银堂 西安电子科技大学微电子所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
首先采用Thevenin端接方法对多芯片组件(MCM)电路进行阻抗匹配,然后通过建立等效电路仿真模型,研究其电磁干扰频谱中的两次峰值问题.模拟结果表明,第一个峰值频率随负载电容和寄生电容的增大而减小;第二个峰值频率随负载电容和电阻的... 详细信息
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多芯片组件基板单探针测试路径的二次优化
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Journal of Semiconductors 2007年 第10期28卷 1652-1655页
作者: 徐如清 董刚 黄炜炜 杨银堂 西安电子科技大学微电子所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
基于模拟退火算法给出了一种可用于MCM互连基板单探针测试的二次优化方法,即采用模拟退火算法对启发式算法获得的MCM互连基板单探针测试路径进行二次优化改进.模拟结果显示,提方法与已有的启发式优化算法相比较,对单探针路径的优化最... 详细信息
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硅基PZT压电薄膜微传感器的结构设计和实验研究
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Journal of Semiconductors 2007年 第5期28卷 778-782页
作者: 娄利飞 杨银堂 李跃进 张萍 西安电子科技大学微电子学所宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 西安710071
对硅基锆钛酸铅(PZT)压电薄膜微传感器进行了结构和版图设计.根据MEMS加工工艺和标准硅基IC工艺的特点,获得了硅基PZT压电薄膜微悬臂梁结构系统工艺流程中的关键工艺技术和典型工艺条件.对PZT压电薄膜的制备和微细图形化进行了较为详细... 详细信息
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硅基PZT压电薄膜微开关的设计和制作
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功能材料器件学报 2007年 第6期13卷 609-614页
作者: 娄利飞 杨银堂 李跃进 西安电子科技大学微电子学所/宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 西安710071
对硅基锆钛酸铅(PZT)压电薄膜微开关进行了结构和版图设计,根据MEMS加工工艺和标准硅基IC工艺的特点,获得了硅基PZT压电薄膜微悬臂梁结构系统工艺流程中的关键工艺技术和典型工艺条件,对多孔硅的选择性生长进行了较为详细的实验研究,最... 详细信息
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