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文献类型

  • 7 篇 专利

馆藏范围

  • 7 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

机构

  • 2 篇 霓佳斯株式会社
  • 2 篇 住友橡胶工业株式...
  • 2 篇 信越半导体株式会...
  • 1 篇 田中贵金属工业株...
  • 1 篇 tanaka kikinzoku...

作者

  • 2 篇 山田吉博
  • 2 篇 安田太一
  • 2 篇 佐藤绚也
  • 2 篇 峰章弘
  • 2 篇 佐佐木正直
  • 2 篇 浅井一将
  • 2 篇 奥野雄大
  • 2 篇 平井利幸
  • 2 篇 古川大辅
  • 2 篇 佐藤勇章
  • 2 篇 中岛章裕
  • 2 篇 小西宽文
  • 2 篇 阿部勇美
  • 2 篇 真壁弘
  • 2 篇 中村大毅
  • 2 篇 汤浅雄大
  • 2 篇 青木一晃
  • 2 篇 佐藤勇一
  • 1 篇 koshiji kenjiro
  • 1 篇 sato hironori

语言

  • 6 篇 中文
  • 1 篇 日文
检索条件"作者=佐藤勇章"
7 条 记 录,以下是1-10 订阅
排序:
送纸辊和具备该送纸辊的图像形成装置
送纸辊和具备该送纸辊的图像形成装置
收藏 引用
作者: 小西宽文 平井利幸 山田吉博 奥野雄大 佐藤 日本兵库县神户市
本发明的目的在于提供一种送纸辊和图像形成装置,该送纸辊从使用初期起经过长期间也不会由于大的橡胶磨削而产生较长的带状磨耗粉,能够持续维持良好的供纸性能。本发明的送纸辊具备由弹性材料以筒状整体形成的辊主体(2),外周面(5)上... 详细信息
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双面研磨方法
双面研磨方法
收藏 引用
作者: 佐佐木正直 青木一晃 安田太一 佐藤勇章 汤浅雄大 浅井一将 古川大辅 日本东京都
本发明是一种双面研磨方法,其在载体上保持晶圆,且利用粘贴有研磨布的上平板和下平板来夹持所述载体,并同时研磨所述晶圆的双面,其中,所述载体具有:保持孔,其用于保持所述晶圆;环状的树脂插入物,其沿着所述保持孔的内周而配置... 详细信息
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金属パターンの形成方法
金属パターンの形成方法
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作者: KOSHIJI KENJIRO 越路 健二郎 MAKITA YUICHI 牧田 NAKAMURA NORIAKI 中村 紀 KASUGA MASATO 春日 政人 OSHIMA YUSUKE 大嶋 優輔 SATO HIRONORI 佐藤 弘規 OTAKE SHIGEYUKI 大武 成行 KUBO HITOSHI 久保 仁志
To provide a metal pattern formation process capable of forming a high quality metal pattern and allowing the application of a wide range of fluorine-containing ***: The present invention relates to a method for formi...
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双面研磨方法
双面研磨方法
收藏 引用
作者: 佐佐木正直 青木一晃 安田太一 佐藤勇章 汤浅雄大 浅井一将 古川大辅 日本东京都
本发明是一种双面研磨方法,其在载体上保持晶圆,且利用粘贴有研磨布的上平板和下平板来夹持所述载体,并同时研磨所述晶圆的双面,其中,所述载体具有:保持孔,其用于保持所述晶圆;环状的树脂插入物,其沿着所述保持孔的内周而配置... 详细信息
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气体处理装置用保持材料、气体处理装置及相关的方法
气体处理装置用保持材料、气体处理装置及相关的方法
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作者: 真壁弘 中村大毅 佐藤绚也 阿部 中岛 日本东京都
本发明提供用以实现保持材料与套管的摩擦阻力的适当控制的气体处理装置用保持材料,气体处理装置及相关的方法。本发明的气体处理方法的特征在于,其是使用气体处理装置对气体进行处理的方法,所述气体处理装置具备处理结构体(20)、收... 详细信息
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送纸辊和具备该送纸辊的图像形成装置
送纸辊和具备该送纸辊的图像形成装置
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作者: 小西宽文 平井利幸 山田吉博 奥野雄大 佐藤 日本兵库县神户市
本发明的目的在于提供一种送纸辊和图像形成装置,该送纸辊从使用初期起经过长期间也不会由于大的橡胶磨削而产生较长的带状磨耗粉,能够持续维持良好的供纸性能。本发明的送纸辊具备由弹性材料以筒状整体形成的辊主体(2),外周面(5)上... 详细信息
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气体处理装置用保持材料、气体处理装置及相关的方法
气体处理装置用保持材料、气体处理装置及相关的方法
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作者: 真壁弘 中村大毅 佐藤绚也 阿部 中岛 日本东京都
本发明提供用以实现保持材料与套管的摩擦阻力的适当控制的气体处理装置用保持材料,气体处理装置及相关的方法。本发明的气体处理方法的特征在于,其是使用气体处理装置对气体进行处理的方法,所述气体处理装置具备处理结构体(20)、收... 详细信息
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