检索结果-内蒙古大学图书馆

铁路技术创新 2018年第2期 113-116页

作者：谢宗桀深圳市市政设计研究院有限公司工程师广东深圳518029

论述地铁工程中走行轨回流产生的杂散电流腐蚀问题及危害、杂散电流腐蚀防护措施和独立轨回流技术研究现状;针对独立轨回流技术在供电系统、车辆系统、土建工程中的应用可行性以及对其他系统的影响进行分析;并对独立轨回流和走行轨回流... 详细信息

论述地铁工程中走行轨回流产生的杂散电流腐蚀问题及危害、杂散电流腐蚀防护措施和独立轨回流技术研究现状;针对独立轨回流技术在供电系统、车辆系统、土建工程中的应用可行性以及对其他系统的影响进行分析;并对独立轨回流和走行轨回流方案进行技术经济对比分析。

关键词：地铁独立轨走行轨杂散电流回流技术

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热回流技术提取长裙竹荪多糖的工艺研究

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中国化妆品 2015年第11期 62-65页

作者：刘晓英刘光荣

本研究为了优化热回流法提取竹笋多糖的提取工艺，以多糖提取率为指标，通过单因素及正交实验对提取工艺进行优化，主要考察了提取料液比、时间、提取!oH等因素。研究结果显示热回流法提取长裙竹荪多糖的最优工艺为料液比（110：1）、... 详细信息

本研究为了优化热回流法提取竹笋多糖的提取工艺，以多糖提取率为指标，通过单因素及正交实验对提取工艺进行优化，主要考察了提取料液比、时间、提取!oH等因素。研究结果显示热回流法提取长裙竹荪多糖的最优工艺为料液比（110：1）、时间（2小时）、提取pH（5．0），采用此条件下提取长裙竹荪多糖提取率为（18．65±0．259）%，同时该工艺具有良好精密度与重复性，适用于长裙竹荪多糖的提取。

关键词：提取工艺竹荪多糖长裙回流技术正交实验最优工艺回流法提取率

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对非均相回流技术制备的开口ZnS空心微球反应条件的研究

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金陵科技学院学报 2014年第2期30卷 35-40页

作者：王寅珏苏州健雄职业技术学院生物与化学工程系江苏太仓215411

以非均相回流技术制备了开口ZnS空心微球,通过反应时间、搅拌速度、反应温度、水油比和搅拌方式等探究了反应条件对ZnS微球形貌的影响。结果表明,水油比1∶4,反应温度55℃,磁力搅拌速度20r/m,反应时间2h是比较适宜的反应条件,能够制备... 详细信息

以非均相回流技术制备了开口ZnS空心微球,通过反应时间、搅拌速度、反应温度、水油比和搅拌方式等探究了反应条件对ZnS微球形貌的影响。结果表明,水油比1∶4,反应温度55℃,磁力搅拌速度20r/m,反应时间2h是比较适宜的反应条件,能够制备得到球形结构完好、大小均一、尺寸约为8μm的开口硫化锌空心微球。

关键词：回流技术反应条件 ZnS空心微球

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SMT通孔回流技术工艺装备

SMT通孔回流技术工艺装备

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作者：冯俊谊 100096 北京市海淀区西三旗建材城中路12号院27号楼航天达盛电子技术有限公司

本实用新型涉及一种电子产品生产中使用的工艺装备，尤其涉及SMT通孔回流技术的工艺装备，SMT通孔回流技术工艺装备，包括托盘，其特征在于托盘横截面的两侧是台阶形状，托盘上表面的中部是PCB凹槽，PCB凹槽外侧依次是通孔、USB槽，PCB... 详细信息

标准号: CN202285460U

本实用新型涉及一种电子产品生产中使用的工艺装备，尤其涉及SMT通孔回流技术的工艺装备，SMT通孔回流技术工艺装备，包括托盘，其特征在于托盘横截面的两侧是台阶形状，托盘上表面的中部是PCB凹槽，PCB凹槽外侧依次是通孔、USB槽，PCB凹槽上又设有表贴件凹槽，PCB凹槽的对角处各设有一个定位柱，本实用新型的有益效果是，利用一个工艺装备，将PCB放在工艺装备上，在PCB的通孔处印刷了一定比例的锡膏，再用贴片机将通孔插装的元件插装在PCB上，然后一起过高温回流焊接机焊接，从而减少了手工焊接的人力成本，利用工艺装备提高生产效率，保证了品质。

关键词：工艺装备通孔托盘回流技术高温回流人力成本手工焊接台阶形状元件插装对角定位柱焊接机上表面贴片机贴件外侧锡膏电子产品焊接印刷两侧中部

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用于微球面加工的热熔回流技术

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电子电路与贴装 2011年第4期 16-18页

产品的小型化、微型化是21世纪产品发展的主要趋势之一。微小零件、微小装置在半导体工业、生物技术、微电子工业、远程通讯以及医疗行业中得到越来越广泛的应用。微细加工技术是实现产品零部件微型化基本技术，受到越来越多的关注。LIG... 详细信息

产品的小型化、微型化是21世纪产品发展的主要趋势之一。微小零件、微小装置在半导体工业、生物技术、微电子工业、远程通讯以及医疗行业中得到越来越广泛的应用。微细加工技术是实现产品零部件微型化基本技术，受到越来越多的关注。LIGA技术於20世纪80年代由德国卡尔斯鲁尔核研究中心开发而成。

关键词：回流技术球面加工热熔微细加工技术 LIGA技术产品发展半导体工业微电子工业

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一种托盘回流机构

一种托盘回流机构

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作者：黎新荣 518000 广东省深圳市龙华新区新区大道东侧曼海宁花园北区6-7D

本实用新型属于流水线上托盘回流技术领域，一种托盘回流机构，包括：流水线体(4)、缓冲器(3)、滑轨(1)和防栏杆(2)，所述滑轨(1)倾斜安装在流水线体(4)下方，滑轨(1)在流水线体(4)初始工位的高度低于其在流水线体(4)末端工位的高度，... 详细信息

标准号: CN205114360U

本实用新型属于流水线上托盘回流技术领域，一种托盘回流机构，包括：流水线体(4)、缓冲器(3)、滑轨(1)和防栏杆(2)，所述滑轨(1)倾斜安装在流水线体(4)下方，滑轨(1)在流水线体(4)初始工位的高度低于其在流水线体(4)末端工位的高度，防栏杆(2)沿流水线方向安装在流水线体(4)的下侧面；缓冲器(3)安装在流水线体(4)末端的防栏杆(2)上。本实用新型能够使托盘自动回流至初始工位以供循环，不需人工搬运。

关键词：流水线防栏杆工位滑轨缓冲器托盘流水线方向回流机构回流技术倾斜安装人工搬运自动回流上托盘下侧面实用一种下方低于

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一种新型三段椭圆卧式一体化污水处理装置

一种新型三段椭圆卧式一体化污水处理装置

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作者：邓帮武 230001 安徽省合肥市双凤开发区金江路32号

本实用新型公开一种新型三段椭圆卧式一体化污水处理装置，其特征是包括生物沉淀过滤系统﹑快速沉淀回流循环系统﹑袋式过滤装置及清水出水池，所述生物沉淀过滤系统由过滤格栅﹑有机物厌氧池﹑格网﹑自提升通道﹑好氧池和缺氧池组成，... 详细信息

标准号: CN205204986U

本实用新型公开一种新型三段椭圆卧式一体化污水处理装置，其特征是包括生物沉淀过滤系统﹑快速沉淀回流循环系统﹑袋式过滤装置及清水出水池，所述生物沉淀过滤系统由过滤格栅﹑有机物厌氧池﹑格网﹑自提升通道﹑好氧池和缺氧池组成，所述快速沉淀回流系统包括循环通道﹑爆气装置﹑沉淀回流池﹑集水槽，所述袋式过滤装置包括双层格栅网滤层﹑袋式过滤器，所述清水出水池内装有水质检测装置﹑循环杀菌装置和提升泵。本实用新型将生物系统﹑沉淀过滤系统进行整体组合，综合高效地利用菌种技术﹑爆气技术﹑快速沉淀回流技术及袋式过滤，确保处理后水质达国家安全标准，适合农村污水处理推广使用。

关键词：袋式过滤快速沉淀过滤系统生物沉淀出水池清水一体化污水处理装置农村污水处理水质检测装置循环杀菌装置袋式过滤器爆气装置沉淀过滤沉淀回流过滤格栅回流技术回流系统生物系统双层格栅循环通道循环系统整体组合好氧池集水槽缺氧池提升泵网滤层厌氧池有机物自提升实用椭圆爆气格网三段一种菌种国家安全水质推广公开组成处理进行

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一种新型三段椭圆卧式一体化污水处理装置

一种新型三段椭圆卧式一体化污水处理装置

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作者：邓帮武 230001 安徽省合肥市双凤开发区金江路32号

本发明公开一种新型三段椭圆卧式一体化污水处理装置，其特征是包括生物沉淀过滤系统﹑快速沉淀回流循环系统﹑袋式过滤装置及清水出水池，所述生物沉淀过滤系统由过滤格栅﹑有机物厌氧池﹑格网﹑自提升通道﹑好氧池和缺氧池组成，所述... 详细信息

标准号: CN105366883A

本发明公开一种新型三段椭圆卧式一体化污水处理装置，其特征是包括生物沉淀过滤系统﹑快速沉淀回流循环系统﹑袋式过滤装置及清水出水池，所述生物沉淀过滤系统由过滤格栅﹑有机物厌氧池﹑格网﹑自提升通道﹑好氧池和缺氧池组成，所述快速沉淀回流系统包括循环通道﹑爆气装置﹑沉淀回流池﹑集水槽，所述袋式过滤装置包括双层格栅网滤层﹑袋式过滤器，所述清水出水池内装有水质检测装置﹑循环杀菌装置和提升泵。本发明将生物系统﹑沉淀过滤系统进行整体组合，综合高效地利用菌种技术﹑爆气技术﹑快速沉淀回流技术及袋式过滤，确保处理后水质达国家安全标准，适合农村污水处理推广使用。

关键词：袋式过滤快速沉淀过滤系统生物沉淀出水池清水一体化污水处理装置农村污水处理水质检测装置循环杀菌装置袋式过滤器爆气装置沉淀过滤沉淀回流过滤格栅回流技术回流系统生物系统双层格栅循环通道循环系统整体组合好氧池集水槽缺氧池提升泵网滤层厌氧池有机物自提升椭圆爆气格网三段一种菌种国家安全水质推广公开组成处理进行

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一种半导体基板光刻工艺

一种半导体基板光刻工艺

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作者：陈谷然任春江陈堂胜 210016 江苏省南京市秦淮区中山东路524号

本发明公开了一种半导体基板光刻工艺，通过在半导体基板上涂覆单层正性光刻胶层，进行曝光、显影，之后涂覆具有水溶性的抗反射涂层，再进行烘焙处理使得光刻胶层回流，最后利用水溶液去除水溶性的抗反射涂层得到了具有缩小线宽的光刻... 详细信息

标准号: CN105446075A

本发明公开了一种半导体基板光刻工艺，通过在半导体基板上涂覆单层正性光刻胶层，进行曝光、显影，之后涂覆具有水溶性的抗反射涂层，再进行烘焙处理使得光刻胶层回流，最后利用水溶液去除水溶性的抗反射涂层得到了具有缩小线宽的光刻胶型。解决了现有技术中对于某些正性光刻胶而言，回流技术仅可以改变光刻胶型即仅使得光刻胶侧壁变缓，但是线宽不能减小的问题，一方面在不升级设备的前提下，制作出远比设备极限能力要小的光刻线宽，并且工艺简单可靠；二是获得中间线宽小、底部线宽大的光刻胶型，这种胶型有利于干法刻蚀过程中获得具有较缓坡度的图形。

关键词：光刻胶半导体基板抗反射涂层线宽正性光刻胶层光刻胶侧壁正性光刻胶干法刻蚀光刻工艺光刻胶层光刻线宽烘焙处理回流技术升级设备缓坡底部线中间线单层减小上涂涂覆显影一种去除宽大曝光可靠缩小进行公开改变解决

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一种制备p-铁素体修饰n-赤铁矿异质结构的生物方法

一种制备p-铁素体修饰n-赤铁矿异质结构的生物方法

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作者：边亮徐金宝董海良董发勤宋绵新侯文平李海龙王磊常爱民 830011 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市北京南路40号附1号

本发明涉及一种利用腐败希瓦氏菌MR-1制备p-铁素体修饰n-赤铁矿异质结构的生物方法,该方法通过生物合成技术开发了p-n结与欧姆层的p型铁素体-n型赤铁矿异质结构，分两步进行，第一步：胶溶回流技术制备粒度约50 nm的A-Zn(A=Mg、Mn或Ni)... 详细信息

标准号: CN104450790A

本发明涉及一种利用腐败希瓦氏菌MR-1制备p-铁素体修饰n-赤铁矿异质结构的生物方法,该方法通过生物合成技术开发了p-n结与欧姆层的p型铁素体-n型赤铁矿异质结构，分两步进行，第一步：胶溶回流技术制备粒度约50 nm的A-Zn(A=Mg、Mn或Ni)修饰针铁矿（FeOOH）粉体；第二步：室温厌氧条件下培养腐败希瓦氏菌MR-1还原部分三价铁，得到(A-Zn)Fe₂O₄-Fe₂O₃异质结。该方法与现有技术相比：具有工艺简单、污染小、耗能低、易于放大、回收率高等优点，通过该方法获得的(A-Zn)Fe₂O₄-Fe₂O₃异质结表面缺陷低、团聚少、粒度均匀，同时具备较好的光热磁特性。

关键词：腐败希瓦氏菌异质结构赤铁矿铁素体异质结修饰生物合成技术表面缺陷回流技术生物方法制备粒度光热粉体耗能胶溶厌氧回收率铁矿还原放大污染培养开发

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