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    • 1 篇 化学工程与技术
    • 1 篇 环境科学与工程（可...
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  • 1 篇 理学
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主题

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  • 1 篇 安装处理
  • 1 篇 机械研磨
  • 1 篇 小麦
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  • 1 篇 平行研磨仪
  • 1 篇 堤坝设施
  • 1 篇 钢管结构设计
  • 1 篇 组合结构
  • 1 篇 样品制备
  • 1 篇 空负荷
  • 1 篇 硬质合金刀片
  • 1 篇 管沟设施

机构

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  • 4 篇 中国石油化工股份...
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  • 4 篇 中国石油化工股份...
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  • 3 篇 株式会社东芝
  • 3 篇 不二越机械工业株...
  • 3 篇 辽宁大学
  • 3 篇 胜高股份有限公司
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  • 2 篇 暨南大学
  • 2 篇 郑州工程技术学院
  • 2 篇 国立大学法人东海...
  • 2 篇 北京卫蓝新能源科...
  • 2 篇 山东省农业科学院...
  • 2 篇 国立大学法人金泽...
  • 2 篇 沈阳理工大学
  • 2 篇 中国科学院微电子...
  • 2 篇 新东工业株式会社

作者

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  • 4 篇 陈铖
  • 4 篇 本岛靖之
  • 4 篇 陈全心
  • 4 篇 丸山彻
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  • 4 篇 山木晓
  • 4 篇 石秉忠
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  • 3 篇 郭放

语言

  • 127 篇 中文
检索条件"主题词=研磨条件"
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一种晶圆研磨方法
一种晶圆研磨方法
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作者： 田国军 崔凯 100176 北京市大兴区经济技术开发区泰河三街1号2幢2层101
本发明提供一种晶圆研磨方法，包括以下步骤：获取基准图，获取晶圆厚度‑研磨终点检测激光反射光光强的关系图；选取检测点，在晶圆的表面上选取多个检测点，使用研磨终点检测激光分别照射检测点，并获取各检测点的反射激光光强；实时... 详细信息
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浅沟槽隔离结构的制备方法及浅沟槽隔离结构
浅沟槽隔离结构的制备方法及浅沟槽隔离结构
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作者： 杨涛 张月 贺晓彬 高建峰 李俊杰 韦亚一 戴博伟 李俊峰 王文武 100029 北京市朝阳区北土城西路3号
本发明提供一种浅沟槽隔离结构的制备方法及浅沟槽隔离结构，其中化学机械平坦化的方法包括：形成衬底，衬底内具有浅沟槽，且衬底表面具有研磨停止层，浅沟槽贯穿研磨停止层；沉积绝缘材料并进行退火工艺，以形成绝缘介质层，绝缘介质... 详细信息
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研磨装置及研磨方法
研磨装置及研磨方法
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作者： 伊藤雅佳 小畠严贵 日本国东京都大田区羽田旭町11番1号
本发明提供一种监视研磨垫的研磨面上的研磨液、药液等液体量的分布本身，从而能够以适当的研磨条件研磨晶片等被研磨物的研磨装置及研磨方法。研磨装置具备：支承研磨垫(2)的研磨台(5)；将被研磨物(W)向研磨垫(2)的研磨面(2a)按压的研... 详细信息
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浅沟槽隔离结构的制备方法及浅沟槽隔离结构
浅沟槽隔离结构的制备方法及浅沟槽隔离结构
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作者： 杨涛 张月 贺晓彬 高建峰 李俊杰 韦亚一 戴博伟 李俊峰 王文武 100029 北京市朝阳区北土城西路3号
本发明提供一种浅沟槽隔离结构的制备方法及浅沟槽隔离结构，其中化学机械平坦化的方法包括：提供一基底结构，基底结构包括衬底和研磨停止层，基底结构内具有多条不同宽度的隔离槽，隔离槽贯穿研磨停止层并贯穿衬底的上表面；沉积绝缘... 详细信息
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一种CuII双核配合物及其制备方法和在机械力下催化C-S耦合反应中的应用
一种Cu<Sup>II</Sup>双核配合物及其制备方法和在机械力下催化C-S...
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作者： 郭放 李鑫玉 郝秀佳 110000 辽宁省沈阳市沈北新区道义南大街58号
本发明公开一种CuII双核配合物及其制备方法和在机械力下催化C‑S耦合反应中的应用。采用的技术方案是：以苯并咪唑和2‑氯甲基吡啶盐酸盐为原料，在常温无溶剂条件下，用球磨法制备1,3‑双(2‑吡啶基甲基)苯并咪唑氯酸盐(L)。并以L和氯化... 详细信息
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玻璃基板的制造方法以及玻璃基板
玻璃基板的制造方法以及玻璃基板
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作者： 小林悠波 吉田雄一 花岛圭辅 日本东京都
抑制尺寸精度的降低。玻璃基板的制造方法是支承半导体器件的玻璃基板的制造方法，生成玻璃母板，测定玻璃母板的厚度、厚度偏差以及翘曲量，基于玻璃母板的厚度来分选玻璃母板，切断分选出的玻璃母板而生成多个玻璃坯板，基于玻璃母板... 详细信息
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一种全谷物胶体颗粒稳定功能性皮克林乳液的制备方法
一种全谷物胶体颗粒稳定功能性皮克林乳液的制备方法
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作者： 卢旋旋 黄庆荣 汪勇 510632 广东省广州市天河区黄埔大道西601号
本发明公开了一种全谷物胶体颗粒稳定功能性皮克林乳液的制备方法。该方法包括：先将全谷物原料以0.5‑25wt％的浓度加入到水中分散；将分散液加入到介质研磨机器的循环室中，在研磨速度2500‑6000rpm、研磨珠充装率为30‑70％的研磨条件... 详细信息
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CMP研磨结构及其使用方法
CMP研磨结构及其使用方法
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作者： 刘奕君 李一斌 刘盟 201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室
本发明提供一种CMP研磨结构，研磨垫和研磨盘，研磨垫放置于研磨盘上，研磨盘带动研磨垫同步旋转；待加工晶圆利用硅片固定装置面向研磨垫；磨料喷头，其用于对待加工晶圆研磨时向研磨盘表面喷洒研磨液；控制器，其用于控制磨料喷头的... 详细信息
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一种用于双端面研磨流量监控装置
一种用于双端面研磨流量监控装置
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作者： 王玉欢 510030 广东省广州市增城区宁西街新和北路29号
本发明公开了一种用于双端面研磨流量监控装置，包括双端面研磨机，其两侧均设置有砂轮主轴，双端面研磨机上设置有用于研磨液流量监控的辅助机构，辅助机构包括存水箱、连接管、抽水泵、固定管、两个流量检测仪和两个导流管，流量检测... 详细信息
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半导体深接触孔结构研磨方法
半导体深接触孔结构研磨方法
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作者： 贺术 陈献龙 韩佳锡 谢辉 蔡磊 王晓芳 510700 广东省广州市黄埔区凤凰五路28号
本申请涉及半导体技术领域，公开了一种半导体深接触孔结构研磨方法，包括提供一具有深接触孔的初始半导体结构；在第一研磨条件下，第一研磨盘研磨去除初始半导体结构的表面钨金属层和阻挡/黏附层，且暴露初始半导体结构的氮化硅阻挡... 详细信息
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