检索结果-内蒙古大学图书馆

中国微米、纳米技术第七届学术会年会

作者：王英杨明来张效岩蔡炳初徐东张亚非上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室保定天河电子技术有限公司上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室

采用LB(langmuir-blodgett)排布技术制备了大面积高密度的FePt纳米粒子单层膜,利用纳米粒子单层膜作为掩模,通过反应离子刺蚀技术进行了纳米刘蚀研究。实验结果表明,采用纳米拉子单层膜作为掩模,通过控制反应离子刻蚀条件可以实现纳米级... 详细信息

采用LB(langmuir-blodgett)排布技术制备了大面积高密度的FePt纳米粒子单层膜,利用纳米粒子单层膜作为掩模,通过反应离子刺蚀技术进行了纳米刘蚀研究。实验结果表明,采用纳米拉子单层膜作为掩模,通过控制反应离子刻蚀条件可以实现纳米级(小于50nm)的纳米点阵和纳米柱的刻蚀。

关键词： LB膜纳米粒子掩模纳米刻蚀

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静电悬浮转子微陀螺及其关键技术

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中国惯性技术学报 2005年第6期13卷 61-67页

作者：崔峰苏宇锋张卫平吴校生陈文元赵小林上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家重点实验室上海200030

静电悬浮转子微陀螺具有比振动式微陀螺精度高的潜在优点,并可同时测量二轴角速度和三轴线加速度。介绍了静电悬浮转子微陀螺的研究现状。对该静电悬浮转子微陀螺/加速度计的工作原理、特点进行了分析,并对实现高精度静电悬浮转子微陀螺... 详细信息

静电悬浮转子微陀螺具有比振动式微陀螺精度高的潜在优点,并可同时测量二轴角速度和三轴线加速度。介绍了静电悬浮转子微陀螺的研究现状。对该静电悬浮转子微陀螺/加速度计的工作原理、特点进行了分析,并对实现高精度静电悬浮转子微陀螺/加速度计的关键技术如静电稳定悬浮、微位移检测控制、静电恒速旋转驱动、微机械加工和真空封装技术等进行了探讨。指出这一新颖MEMS陀螺是高精度多轴集成微惯性传感器技术发展的一个重要方向,具有广阔的应用前景和较大的发展潜力。

关键词：微机电系统微陀螺微加速度计转子静电悬浮

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UV-LIGA双层微齿轮加工工艺研究

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微细加工技术 2005年第4期 69-75页

作者：张晔陈迪潘欣欣方华斌朱军刘景全上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

利用SU-8光刻胶UV-LIGA技术制备了双层微齿轮,齿轮单层的厚度可达450μm。制备中分别采用了三种工艺路线:两次电铸、溅射种子层一次电铸和直接一次电铸,均成功地制备出了双层微齿轮,并讨论了三种工艺路线各自的适用范围,即两次电铸工艺... 详细信息

利用SU-8光刻胶UV-LIGA技术制备了双层微齿轮,齿轮单层的厚度可达450μm。制备中分别采用了三种工艺路线:两次电铸、溅射种子层一次电铸和直接一次电铸,均成功地制备出了双层微齿轮,并讨论了三种工艺路线各自的适用范围,即两次电铸工艺路线适用于对机械强度要求不高的各类多层微结构器件,一次电铸工艺路线适用于对机械强度要求较高的结构,其中溅射种子层工艺适用于深宽比较小的多层微结构模具,而直接电铸工艺适用于深宽比较大且层间直径相差较小的多层微结构器件。

关键词： UV-LIGA技术 SU-8胶双层微齿轮

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UV-LIGA中光源波长和曝光量对SU-8光刻胶微结构的影响

UV-LIGA中光源波长和曝光量对SU-8光刻胶微结构的影响

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中国微米纳米技术第七届学术年会

作者：张晔陈迪张金娅朱军刘景全上海交通大学微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

本文基于UV-LIGA技术采用SU-8光刻胶制备了高深宽比微结构,最高深宽比达20:1.研究了改变光源的波长和曝光量对SU-8光刻胶成形的影响,揭示了在一定范围内线宽随曝光量非线性变化的规律.从聚合度和聚合所得高分子结构两方面对该变化规律... 详细信息

本文基于UV-LIGA技术采用SU-8光刻胶制备了高深宽比微结构,最高深宽比达20:1.研究了改变光源的波长和曝光量对SU-8光刻胶成形的影响,揭示了在一定范围内线宽随曝光量非线性变化的规律.从聚合度和聚合所得高分子结构两方面对该变化规律给出了合理的解释,并基于该变化规律提出了一种新的消除微结构倒角的方法.

关键词： UV-LIGA技术 SU-8光刻胶高深宽比微结构倒角光源波长曝光量

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不同晶化处理方式对PZT薄膜性能的影响

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纳米科技 2005年第6期2卷 35-38页

作者：李敏惠春汪静上海交通大学微纳科学技术研究院、微米／纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

采用改进的溶胶一凝胶（sol—gel）法在Pt／Ti／SiO2／Si基片上制备PZT薄膜，研究不同的晶化处理方式对PZT薄膜的微观结构、表面形貌及电学性能的影响。实验结果表明：快速晶化处理方式更有利于薄膜沿（110）方向的择优生长；并且相对... 详细信息

采用改进的溶胶一凝胶（sol—gel）法在Pt／Ti／SiO2／Si基片上制备PZT薄膜，研究不同的晶化处理方式对PZT薄膜的微观结构、表面形貌及电学性能的影响。实验结果表明：快速晶化处理方式更有利于薄膜沿（110）方向的择优生长；并且相对于常规晶化处理方式，快速晶化处理方式制备的PZT薄膜晶粒均匀，排布有序，可有效的提高薄膜的表面质量。电学性能测试结果表明，这种表面形貌可以有效地降低漏电流。

关键词： PZT薄膜 XRD AFM 漏电流溶胶-凝胶

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FX2N可编程控制器温度检测与控制系统的设计

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微计算机信息 2005年第9S期21卷 61-63页

作者：陈远琪李胜勇赵堂忠张卫平广州白云山中药厂上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室中国网络通信集团公司湖北省分公司

本文介绍采用了一种FX2N可编程控制器对自动高速吸塑机发热砖模块进行温度检测与控制系统实现功能的设计。在温度控制输出过程中,采用PID控制器,对温度的采集数据进行计算,然后通过可编程控制器输出对发热砖模块间接控制,同时实现数字... 详细信息

本文介绍采用了一种FX2N可编程控制器对自动高速吸塑机发热砖模块进行温度检测与控制系统实现功能的设计。在温度控制输出过程中,采用PID控制器,对温度的采集数据进行计算,然后通过可编程控制器输出对发热砖模块间接控制,同时实现数字滤波、触发脉冲等功能。

关键词：可编程控制器温度检测控制 PID

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SU-8胶光刻工艺参数优化研究

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微细加工技术 2005年第3期 36-41,80页

作者：张晔陈迪张金娅倪智萍朱军刘景全上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

对基于SU-8胶的UV-LIGA技术进行了工艺优化,研究了光源波长和曝光时间对SU-8胶成型的影响。结果表明,光刻胶表面线宽变化随曝光时间增加先减少后增加,有一个极小值;侧壁角度先增加后减少,有一个极大值。通过优化光源波长、曝光时间以及... 详细信息

对基于SU-8胶的UV-LIGA技术进行了工艺优化,研究了光源波长和曝光时间对SU-8胶成型的影响。结果表明,光刻胶表面线宽变化随曝光时间增加先减少后增加,有一个极小值;侧壁角度先增加后减少,有一个极大值。通过优化光源波长、曝光时间以及显影时间三个主要工艺参数,可以获得侧壁角度为90.64°正角的300μm厚光刻胶微结构和侧壁角度为89.98°近似垂直的500μm厚光刻胶微结构。

关键词： UV-LIGA技术 SU-8胶高深宽比微结构

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毫米级全方位移动机器人及其微装配系统研究

毫米级全方位移动机器人及其微装配系统研究

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中国微米纳米技术第七届学术年会

作者：陈佳品李振波唐晓宁薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学上海200030

微装配系统由微机器人、微移动平台、普通摄像头和显微摄像头组成.微机器人本体尺寸为9mm×9mm×6mm,具有全方位移动特性.机器人使用了4个直径3mrn电磁型微电机,其中1个为转向驱动器,其余为前进动力源.基于LIGA技术制造的微齿... 详细信息

微装配系统由微机器人、微移动平台、普通摄像头和显微摄像头组成.微机器人本体尺寸为9mm×9mm×6mm,具有全方位移动特性.机器人使用了4个直径3mrn电磁型微电机,其中1个为转向驱动器,其余为前进动力源.基于LIGA技术制造的微齿轮减速系统将4个电机联系在一起,提高了转向分辨率和转向驱动力矩.由SU-8胶制成的手掌固定于压电机械手臂的前端并安装在机器人的顶部,可夹放工件.通过采用细分方法,微机器人直线移动定位达到每步0.07mm,转向精度每步0.8°.微移动平台的定位精度为每步0.005mm,其位移范围为0～0.3mm.微机器人与微动平台相互结合实现了轴孔装配,轴承孔径为0.6mm,轴径0.35mm.

关键词：移动机器人微装配毫米级全方位

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微流控芯片金属模具制备工艺研究

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微细加工技术 2005年第4期 56-58,75页

作者：李建华陈迪刘景全朱军上海交通大学微纳技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

为了解决SU-8光刻胶电铸金属模具中遇到的光刻胶脱落和电铸后去胶难等问题,提出了采用硅橡胶(PDMS)微复制与电铸毛细管电泳芯片金属模具相结合的新工艺。该方法首先用SU-8光刻胶制备微通道阳模,以此为模版浇注PDMS阴模,然后在此PDMS阴... 详细信息

为了解决SU-8光刻胶电铸金属模具中遇到的光刻胶脱落和电铸后去胶难等问题,提出了采用硅橡胶(PDMS)微复制与电铸毛细管电泳芯片金属模具相结合的新工艺。该方法首先用SU-8光刻胶制备微通道阳模,以此为模版浇注PDMS阴模,然后在此PDMS阴模上电镀金属模具。与采用SU-8光刻胶电镀金属模具相比,此方法不存在光刻胶与衬底结合力差以及去胶难等问题,所制备的金属模具侧壁垂直,表面光滑。

关键词： SU-8 UV—LIGA PDMS 金属模具微流控

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FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜巨磁阻抗效应研究

FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜巨磁阻抗效应研究

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上海市真空学会成立20周年暨第九届学术年会

作者：周勇陈吉安杨春生高孝裕王明军张亚民上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室

研究了非晶FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜在100kHz-40MHz范围内的巨磁阻抗效应(其大小用磁阻抗比表示)。当磁场和交流电流沿薄膜的纵向时,磁阻抗比随磁场的增大而增强,在磁场约1600A/m下达到最大值,然后随磁场的增大而下降到负的磁阻抗比。在... 详细信息

研究了非晶FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜在100kHz-40MHz范围内的巨磁阻抗效应(其大小用磁阻抗比表示)。当磁场和交流电流沿薄膜的纵向时,磁阻抗比随磁场的增大而增强,在磁场约1600A/m下达到最大值,然后随磁场的增大而下降到负的磁阻抗比。在频率3MHz、磁场1600A/m时磁阻抗比达到最大值17.2%。磁阻抗比的最大值及负的磁阻抗比与夹心薄膜中磁各向异性轴的取向有关。另外,当磁场施加在薄膜的横向时,薄膜表现出负的磁阻抗比,在频率3MHz、磁场5600A/m时,磁阻抗比达-13.4%。

关键词： FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜巨磁阻抗效应磁各向异性

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