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  • 25 篇 期刊文献
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  • 27 篇 电子文献
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机构

  • 21 篇 哈尔滨工业大学
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作者

  • 4 篇 刘晓为
  • 4 篇 陈伟平
  • 4 篇 宋珂
  • 4 篇 张福厚
  • 3 篇 郝修田
  • 3 篇 周治平
  • 2 篇 刘振茂
  • 2 篇 王喜莲
  • 2 篇 尹亮
  • 2 篇 邢建平
  • 2 篇 叶以正
  • 2 篇 李宇杰
  • 2 篇 马祖光
  • 2 篇 张国威
  • 2 篇 曾一平
  • 2 篇 毛志刚
  • 2 篇 王东红
  • 1 篇 王尚民
  • 1 篇 李文博
  • 1 篇 周定

语言

  • 27 篇 中文
检索条件"机构=哈尔滨工业大学微电子技术教研室"
27 条 记 录,以下是11-20 订阅
排序:
可见光量子阱半导体激光器的研制
收藏 引用
半导体技术 1997年 第1期13卷 29-30页
作者: 宋珂 张福厚 郝修田 山东工业大学电子工程系微电子技术教研室
研制出的波长为778nm的可见光量子阱半导体激光器,温脉冲激射平均线性光功率大于20mW(未镀反射膜),最低阈值电流为30mA。
来源: 评论
具有超晶格缓冲层的量子阱激光器的研制
收藏 引用
中国激光 1997年 第2期24卷 97-99页
作者: 张福厚 宋珂 邢建平 郝修田 曾一平 山东工业大学电子工程系微电子技术教研室 中国科学院半导体研究所
在衬底表面制作超晶格缓冲层可以有效地掩埋体材料的缺陷,使阈值电流大幅度降低,光功率成倍增长。所研制出的量子阱激光器温脉冲平均线性光功率大于20mW(未镀反射膜),波长为778nm,最低阈值电流为30mA,阈值电流密... 详细信息
来源: 评论
热释电体流量传感器的研究
热释电体流量传感器的研究
收藏 引用
第五届全国敏感元件与传感器学术会议
作者: 陈伟平 王东红 滨工业大学 微电子技术教研室
该文介绍了新型热释电流量传感器的特点、结构、性能和初步实验结果。
来源: 评论
分子束外延GaAs/AlGaAs超晶格缓冲层量子阱材料的研究
收藏 引用
电子.激光 1997年 第3期8卷 175-177页
作者: 宋珂 张福厚 邢建平 曾一平 山东工业大学电子工程系微电子技术教研室 中国科学院半导体研究所
采用分子束外延技术(MBE)生长了GaAs/AlGaAs单量子阱和多量子阱材料。采用GaAs/Al-GaAs超晶格缓冲层掩埋衬底缺陷,获得的量子阱结构材料被成功地用于制作量子阱激光器。波长为778nm的激光器,最低阈... 详细信息
来源: 评论
碲镉汞合金组分分布的描述方法
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激光与红外 1996年 第1期26卷 57-58页
作者: 蓝慕杰 赵显峰 周士仁 哈尔滨工业大学微电子技术教研室
介绍了一种利用EDX和自动数据处理程序相结合,用于HgCdTe晶体组分分布研究的描述方法。实际使用结果表明,该方法满足HgCdTe晶体组分分布研究的要求,具有快速直观的特点,对指导工艺调整有重要意义。该法可用于其它半... 详细信息
来源: 评论
一个新的经济型状态化简软件
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哈尔滨工业大学学报 1996年 第2期28卷 80-83页
作者: 陈昕 喻明艳 叶以正 哈尔滨工业大学微电子技术教研室
介绍以隐含最大相容类集为基础的经济型状态化简新算法。该算法是从最大隐含相容类集得出最小闭覆盖的初始候选集,通过对初始候选集的不断调整,得到化简结果。通过与一个具有代表性的经济型算法软件的比较发现,用该算法实现的软件,... 详细信息
来源: 评论
钾双原子分子21∑+u─x1∑+g跃迁连续谱带研究
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光学学报 1996年 第8期16卷 1092-1095页
作者: 吕志伟 刘莉 何伟明 王骐 马祖光 李路 哈尔滨工业大学光电子技术研究所 哈尔滨医科大学数学教研室
理论计算了钾双原子分子21∑+u─x1∑+g跃迁所得到的扩散带荧光谱,并与Gondal等[4]和Luh等[5]以及Milosevic等[6]的实验结果进行了比较。计算结果与Luh等和Milosevic等的实验结果符合... 详细信息
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HWZ-201 IC卡芯片的VHDL行为级建模
HWZ-201 IC卡芯片的VHDL行为级建模
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全国首届VHDL语言及其应用学术会议--第六届全国逻辑设计自动化学术会议
作者: 肖立伊 毛志刚 滨工业大学微电子技术教研室
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780nm可见光量子阱半导体激光器
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山东科学 1996年 第4期9卷 15-16,20页
作者: 宋珂 张福厚 郝修田 山东工业大学电子工程系微电子技术教研室
研制出的波长为780±2nm的可见光量子阱半导体激光器,温平均线性光功率大于20mW(未镀反射膜),最低阈值电流为30mA。
来源: 评论
Ta2O5敏感膜H^+—ISFET研究
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哈尔滨工业大学学报 1994年 第4期26卷 46-49页
作者: 武世香 陈士芳 王东红 王喜莲 孙淑芳 哈尔滨工业大学微电子技术教研室
在不用金作掩蔽膜的情况下,在氢氟酸混合液中对采用直流反应溅射方法制备的Ta2O5薄膜进行选择性腐蚀,制成Ta2O5膜H+-ISFET。测试结果表明,该器件在灵敏度、线性范围、线性度、响应时间、滞后、时漂和选择性等方面... 详细信息
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