检索结果-内蒙古大学图书馆

您好，读者！请登录

内蒙古大学图书馆

首页
概况
党建
资源
服务
科研支持
- 论文收录引用证明
- 科技查新
知识产权
档案馆
帮助

咨询与建议

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

您的常用邮箱：*

您的手机号码：*

问题描述：

当前已输入0个字，您还可以输入200个字

全部搜索
期刊论文
图书
学位论文
标准
纸本馆藏
外文资源发现
数据库导航
超星发现

高级检索

时间限定

出版年份：

文献类型

图书期刊文献学位论文多媒体

馆藏选择

电子馆藏纸本馆藏

核心期刊

全部期刊 SCI 收录期刊 SSCI 收录期刊 EI 收录期刊 CSCD 收录期刊 CSSCI 收录期刊

语言

中文英文

文献类型

期刊文献图书学位论文标准纸本馆藏

帮助

文字说明：

T=题名（书名、题名），A=作者（责任者），K=主题词，P=出版物名称，PU=出版社名称，O=机构（作者单位、学位授予单位、专利申请人），L=中图分类号，C=学科分类号，U=全部字段，Y=年（出版发行年、学位年度、标准发布年）

检索规则说明：

AND代表“并且”；OR代表“或者”；NOT代表“不包含”；(注意必须大写,运算符两边需空一格)

检索范例：

范例一：(K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 AND Y=1982-2016
范例二：P=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT K=Visual AND Y=2011-2016

分类表

所选分类

>> <<

限定检索结果

文献类型

12 篇 专利

馆藏范围

12 篇 电子文献
0 种 纸本馆藏

日期分布

机构

12 篇 东京毅力科创株式...

作者

12 篇 桾本裕一朗
12 篇 羽山隆史
12 篇 滨田佳志
3 篇 只友浩贵
2 篇 下青木刚
2 篇 鹤田丰久
2 篇 NOT FOUND
1 篇 滨口翔喜
1 篇 冈田基

语言

12 篇 中文

检索条件"作者=滨田佳志"

共 12 条记录，以下是1-10 订阅

全选清除本页清除全部题录导出标记到"检索档案"

详细简洁

排序：

基板处理装置和检查方法

基板处理装置和检查方法

引用

作者：滨田佳志桾本裕一朗羽山隆史日本东京都

本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，该摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基...

标准号: CN111009478B

本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，该摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转;摄像部，该摄像部的摄像区域包括被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面;光源，其向所述摄像部的所述摄像区域照射光;检查部，其基于所述摄像部的摄像结果来进行检查;以及选择部，其基于得到该摄像结果时的被处理基板的朝向来选择要在所述检查中使用的摄像结果。

关键词：

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

基片处理的条件设定辅助方法、基片处理系统、存储介质和学习模型

基片处理的条件设定辅助方法、基片处理系统、存储介质和学习模型

引用

作者：下青木刚桾本裕一朗滨田佳志羽山隆史日本东京都

本发明提供的基片处理的条件设定辅助方法包括：将数据集输入到机器学习装置的步骤，其中，数据集包括基片处理的处理条件和关于该基片处理的质量的实际数据，基片处理由基片处理装置执行并且包括对基片供给处理液的处理;和基于学习模...

标准号: CN112997274B

本发明提供的基片处理的条件设定辅助方法包括：将数据集输入到机器学习装置的步骤，其中，数据集包括基片处理的处理条件和关于该基片处理的质量的实际数据，基片处理由基片处理装置执行并且包括对基片供给处理液的处理;和基于学习模型导出基片处理的推荐处理条件的步骤，其中，学习模型是由机器学习装置基于多组数据集通过机器学习而生成的模型，能够响应于处理条件的输入而输出关于基片处理的质量的预测数据。

关键词：

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质

基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质

引用

作者：滨田佳志只友浩贵桾本裕一朗羽山隆史日本

本发明的基片处理装置包括：从释放口对下方的基片释放处理液的液喷嘴;对液喷嘴的释放口的附近的全周进行拍摄的拍摄部;和控制部，控制部执行：图像获取控制，其获取在拍摄部中拍摄到的液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像;和评价控制...

标准号: CN118663480A

本发明的基片处理装置包括：从释放口对下方的基片释放处理液的液喷嘴;对液喷嘴的释放口的附近的全周进行拍摄的拍摄部;和控制部，控制部执行：图像获取控制，其获取在拍摄部中拍摄到的液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像;和评价控制，其根据液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像，进行附着物在液喷嘴的释放口的附着状态的评价。

关键词：

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质

基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质

引用

作者：滨田佳志只友浩贵桾本裕一朗羽山隆史日本东京都

本发明的基片处理装置包括：从释放口对下方的基片释放处理液的液喷嘴；对液喷嘴的释放口的附近的全周进行拍摄的拍摄部；和控制部，控制部执行：图像获取控制，其获取在拍摄部中拍摄到的液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像；和评价控... 详细信息

标准号: CN114269481B

本发明的基片处理装置包括：从释放口对下方的基片释放处理液的液喷嘴；对液喷嘴的释放口的附近的全周进行拍摄的拍摄部；和控制部，控制部执行：图像获取控制，其获取在拍摄部中拍摄到的液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像；和评价控制，其根据液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像，进行附着物在液喷嘴的释放口的附着状态的评价。

关键词：释放口液喷嘴拍摄检查图像基片处理装置释放处理液附着物附着状态图像获取

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

基板处理装置和检查方法

基板处理装置和检查方法

引用

作者：滨田佳志桾本裕一朗羽山隆史水篠真一日本东京都

本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，所述摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理...

标准号: CN111009460B

本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，所述摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转;摄像部，该摄像部的摄像区域包括将被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面;光源，其向所述摄像部的所述摄像区域照射光;以及控制部，其基于被所述旋转保持部保持的正在旋转的被处理基板的朝向，来控制基于所述摄像部的摄像结果进行的检查中的所述光源的发光定时。

关键词：

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

处理方案的评价方法、评价用辅助装置和液体处理装置

处理方案的评价方法、评价用辅助装置和液体处理装置

引用

作者：鹤田丰久桾本裕一朗羽山隆史滨田佳志日本东京都

本发明提供一种在该液体处理装置中能够对处理方案的液体飞溅的风险进行评价的技术，该液体处理装置对基片供给处理液体并且使基片旋转来对基片进行液体处理。在显影装置中，预先在第一存储部(93)制作了风险数据，该风险数据针对晶片(W... 详细信息

标准号: CN108461392B

本发明提供一种在该液体处理装置中能够对处理方案的液体飞溅的风险进行评价的技术，该液体处理装置对基片供给处理液体并且使基片旋转来对基片进行液体处理。在显影装置中，预先在第一存储部(93)制作了风险数据，该风险数据针对晶片(W)的转速和在晶片(W)的显影液的供给位置的每一组合对应有液体飞溅数。并且，当使用者制作处理方案时，根据上述风险数据显示该处理方案中设定的液体飞溅数的经时变化、在处理方案设定的液体飞溅的总数、在各显影步骤中设定的液体飞溅数等的液体飞溅风险。因此，使用者能够掌握重新制作的或者变更了的处理方案的液体飞溅风险，所以能够对处理方案的评价有贡献。

关键词：液体飞溅风险数据液体处理装置晶片制作处理液体方案设定供给位置经时变化显影步骤显影装置液体处理存储部显影液变更

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

监视装置、基板处理装置、监视方法以及存储介质

监视装置、基板处理装置、监视方法以及存储介质

引用

作者：桾本裕一朗滨田佳志羽山隆史冈田基滨口翔喜日本东京都

本发明的课题在于，在基于摄像运动图像监视基板处理时减少计算机的处理负荷。本公开的一个方面所涉及的监视装置是基板处理装置的监视装置，该基板处理装置具备：保持部，其用于保持基板；以及处理液供给部，其通过从喷嘴喷出处理液来... 详细信息

标准号: CN114667592A

本发明的课题在于，在基于摄像运动图像监视基板处理时减少计算机的处理负荷。本公开的一个方面所涉及的监视装置是基板处理装置的监视装置，该基板处理装置具备：保持部，其用于保持基板；以及处理液供给部，其通过从喷嘴喷出处理液来向保持于保持部的基板的表面供给处理液。该监视装置具备：摄像部，其能够拍摄喷嘴和保持于保持部的基板的表面；监视用数据生成部，其在由基板处理装置执行包括第一处理和第二处理的基板的处理的执行期间，基于由摄像部得到的摄像运动图像数据来生成监视用运动图像数据；以及监视条件变更部，其在基板的处理的执行期间变更监视用运动图像数据的生成条件，使得与第一处理的执行期间的监视用运动图像数据相比较，第二处理的执行期间的监视用运动图像数据至少分辨率或帧数不同。

关键词：基板运动图像数据监视基板处理装置监视装置摄像运动处理液摄像部处理液供给部数据生成部条件变更部处理负荷基板处理生成条件图像监视图像数据喷嘴喷嘴喷分辨率帧数变更拍摄计算机

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质

基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质

引用

作者：滨田佳志只友浩贵桾本裕一朗羽山隆史日本东京都

标准号: CN114269481A

关键词：释放口液喷嘴拍摄检查图像基片处理装置释放处理液附着物附着状态图像获取

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

基片处理的条件设定辅助方法、基片处理系统、存储介质和学习模型

基片处理的条件设定辅助方法、基片处理系统、存储介质和学习模型

引用

作者：下青木刚桾本裕一朗滨田佳志羽山隆史日本东京都

本发明提供的基片处理的条件设定辅助方法包括：将数据集输入到机器学习装置的步骤，其中，数据集包括基片处理的处理条件和关于该基片处理的质量的实际数据，基片处理由基片处理装置执行并且包括对基片供给处理液的处理；和基于学习模... 详细信息

标准号: CN112997274A

本发明提供的基片处理的条件设定辅助方法包括：将数据集输入到机器学习装置的步骤，其中，数据集包括基片处理的处理条件和关于该基片处理的质量的实际数据，基片处理由基片处理装置执行并且包括对基片供给处理液的处理；和基于学习模型导出基片处理的推荐处理条件的步骤，其中，学习模型是由机器学习装置基于多组数据集通过机器学习而生成的模型，能够响应于处理条件的输入而输出关于基片处理的质量的预测数据。

关键词：基片处理机器学习装置数据集基片处理装置多组数据机器学习实际数据条件设定预测数据处理液导出输出学习响应

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

基板处理装置和检查方法

基板处理装置和检查方法

引用

作者：滨田佳志桾本裕一朗羽山隆史日本东京都

本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，该摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基... 详细信息

标准号: CN111009478A

本发明提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，该摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转；摄像部，该摄像部的摄像区域包括被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面；光源，其向所述摄像部的所述摄像区域照射光；检查部，其基于所述摄像部的摄像结果来进行检查；以及选择部，其基于得到该摄像结果时的被处理基板的朝向来选择要在所述检查中使用的摄像结果。

关键词：被处理基板摄像部基板处理装置摄像结果旋转保持部摄像区域摄像图像检查选择部照射光光源

来源：评论

学校读者我要写书评

暂无评论

没有更多数据了...

全选清除本页清除全部题录导出标记到“检索档案”

共2页 << < 1 2 > >>

检索报告对象比较合并检索0

隐藏清空

合并搜索

回到顶部

执行限定条件

内容：

评分：

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

订阅名称：

通借通还

温馨提示：

图书名称：

借书校区：

取书校区：

手机号码：

邮箱地址：

一卡通帐号：

电话和邮箱必须正确填写，我们会与您联系确认。

联系人：

所在院系：

联系邮箱：

联系电话：

内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号邮编: 010021

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

机构

作者

语言

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：