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机构

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检索条件"机构=中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感国家重点实验室"
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微量试剂分配压电叠堆泵的设计与实验
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压电与声光 2011年 第3期33卷 382-385,389页
作者: 陈立国 邵超 刘德利 陈涛 朱永杨 哈尔滨工业大学机器人研究所 黑龙江哈尔滨150001 中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术国家重点联合实验室 上海200050
设计、研制了进行微量、快速、精确试剂分配的压电叠堆泵,研究了压电叠堆泵的结构及工作原理,利用解析法和有限元仿真分析法对泵膜、位移放大机构的静态、动态特性进行了分析和研究,并研究了关键参数对泵性能的影响。对样机进行实验研究... 详细信息
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应用于无屏蔽心磁测量中的平面三轴磁强计
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低温物理学报 2011年 第5期33卷 364-368页
作者: 刘扬波 张树林 曾佳 王永良 孔祥燕 谢晓明 信息功能材料国家重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 中国科学院研究生院
目前,无屏蔽心磁测量中主要的噪声抑制技术是梯度计.通常,由于制作工艺不完美和结构不对称等原因,梯度计具有一定的不平衡性.为了提高梯度计的噪声抑制能力,需要采用磁强计进行补偿.本文基于低温超导量子干涉仪(SQUID)设计并制作了平面... 详细信息
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Cu上石墨烯的化学气相沉积法生长研究
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功能材料与器件学报 2011年 第5期17卷 486-490页
作者: 师小萍 于广辉 王斌 吴渊文 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050
利用自行搭建的化学气相沉积(CVD)设备在Cu箔衬底上成功的制备出石墨烯薄膜,并利用光学显微镜和拉曼光谱分析等手段对石墨烯薄膜的形貌和结构进行了表征。主要研究了Cu箔的表面处理和沉积过程的气体流量对石墨烯质量的影响,发现氨水处... 详细信息
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基于集成参比电极的多参数水质监测微传感器阵列研制
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传感器与微系统 2011年 第10期30卷 99-101,105页
作者: 张缓缓 刘彬 金庆辉 刘咏松 浙江理工大学理学院 浙江杭州310018 中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术联合国家重点实验室 上海200050
研究了一种基于MEMS工艺制备的集成微电极型传感器,并用电化学修饰方法将Ag/AgCl参比电极集成在传感器上,用于水体中温度、电导率和氧化还原电位的测定。Pt温度传感器的电阻与温度的线性关系良好,满足温度测量精度的需求;比较法确定电... 详细信息
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肿瘤微血管芯片的制备及其应用
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功能材料与器件学报 2011年 第5期17卷 505-512页
作者: 翟万银 吴蕾 贾春平 邵建波 徐元森 中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术联合国家重点实验室 上海200068 中国科学院研究生院 北京100049 中国科学院上海硅酸盐研究所 上海200050
肿瘤血管结构不同于正常组织血管,由内皮细胞松散地围成不完整的管道,呈高通透性。为建立体外简便、有效、低廉的肿瘤血管模型,本研究采用微加工技术,制作了肿瘤血管微流控芯片。芯片包括24 mm长50μm宽40μm深的微管道和一侧的微腔体... 详细信息
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0.18μm MOSFET器件的总剂量辐照效应
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物理学报 2011年 第11期60卷 489-493页
作者: 刘张李 胡志远 张正选 邵华 宁冰旭 毕大炜 陈明 邹世昌 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 信息功能材料国家重点实验室上海200050 中国科学院研究生院 北京100039
对0.18μm metal-oxide-semiconductor field-effect-transistor(MOSFET)器件进行γ射线辐照实验,讨论分析器件辐照前后关态漏电流、阈值电压、跨导、栅电流、亚阈值斜率等特性参数的变化,研究深亚微米器件的总剂量效应.通过在隔离氧化... 详细信息
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一种适用于相变存储器的低噪声时钟发生器
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微电子学 2011年 第4期41卷 540-544页
作者: 宏潇 陈后鹏 宋志棠 刘波 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室纳米技术研究室 上海200050
基于相变存储器的特性,设计了一种具有低功耗、低噪声的时钟发生器。该时钟由压控振荡器产生,并通过时钟控制电路转换为相变存储器存储操作所需的reset、set信号。由于纳米尺寸下的相变存储器件受噪声影响严重,该电路降低了外围驱动对... 详细信息
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用于相变存储器的自适应1.5X/2X/3X高效电荷泵
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微电子学 2011年 第6期41卷 848-851页
作者: 富聪 宋志棠 陈后鹏 蔡道林 王倩 丁晟 李喜 宏潇 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室纳米技术研究室 上海200050
针对相变存储器中编程驱动电路的电源效率问题,设计了一种1.5X/2X/3X自适应高效电荷泵,电路采用跳周期模式稳定输出电压。在中芯国际0.18μm标准CMOS工艺模型下,对电路进行了仿真。结果表明,在输入电压为2.2~4.8V时,输出5V电压,最大负... 详细信息
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高k材料Ta2O5结构与电学性质的研究
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功能材料 2011年 第7期42卷 1335-1338,1341页
作者: 陈息林 余涛 吴雪梅 董尧君 诸葛兰剑 苏州大学分析测试中心 江苏苏州215123 苏州大学物理系 江苏苏州215006 苏州大学江苏省薄膜材料重点实验室 江苏苏州215006 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 信息功能材料国家重点实验室上海200050
利用双离子束沉积设备在p-Si(100)衬底上制备了Ta2O5基MOS电容,研究了不同辅源能量0、100、200、300eV下薄膜生长机制、内部结构以及电学性质的差异。实验结果显示,在辅源能量200eV下制备的Ta2O5薄膜具有最小的表面粗糙度和优异的界面... 详细信息
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体硅上外延超薄Si1-xGex用于制备SGOI材料
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功能材料与器件学报 2011年 第2期17卷 147-150页
作者: 薛忠营 张波 魏星 张苗 中科院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050 中国科学院研究生院 北京100049
采用减压化学气相沉积的方法在Si衬底上制备了高质量的Si0.75Ge0.25/Si/Si0.86Ge0.14叠层材料,通过TEM、光学显微镜和XRD分析表明,外延的SiGe薄膜具有完好的晶格结构,平整的表面质量,SiGe薄膜处于完全应变状态。通过与Si上外延渐变缓冲... 详细信息
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